在納(na)米量(liang)級薄膜(mo)的(de)(de)(de)各(ge)項相關參數中(zhong)(zhong)，薄膜(mo)材料(liao)的(de)(de)(de)厚度(du)(du)(du)是薄膜(mo)設(she)計和(he)制備過程中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)重(zhong)要參數，是決定薄膜(mo)性(xing)(xing)質和(he)性(xing)(xing)能的(de)(de)(de)基本參量(liang)之(zhi)一，它對(dui)于(yu)(yu)(yu)薄膜(mo)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)學、力學和(he)電磁性(xing)(xing)能等(deng)(deng)都有重(zhong)要的(de)(de)(de)影(ying)響[3]。但是由于(yu)(yu)(yu)納(na)米量(liang)級薄膜(mo)的(de)(de)(de)極(ji)小尺寸及其突出的(de)(de)(de)表(biao)面效應，使得對(dui)其厚度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)準確測(ce)(ce)(ce)量(liang)變得困難。經過眾多科(ke)研(yan)技(ji)術(shu)(shu)人員的(de)(de)(de)探索(suo)和(he)研(yan)究，新(xin)的(de)(de)(de)薄膜(mo)厚度(du)(du)(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)理(li)論和(he)測(ce)(ce)(ce)量(liang)技(ji)術(shu)(shu)不斷涌現，測(ce)(ce)(ce)量(liang)方法(fa)實現了(le)從(cong)手動到自(zi)動，有損(sun)到無損(sun)測(ce)(ce)(ce)量(liang)。由于(yu)(yu)(yu)待測(ce)(ce)(ce)薄膜(mo)材料(liao)的(de)(de)(de)性(xing)(xing)質不同，其適用的(de)(de)(de)厚度(du)(du)(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)方案也不盡相同。對(dui)于(yu)(yu)(yu)厚度(du)(du)(du)在納(na)米量(liang)級的(de)(de)(de)薄膜(mo)，利用光(guang)(guang)(guang)學原理(li)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)技(ji)術(shu)(shu)應用。相比于(yu)(yu)(yu)其他(ta)方法(fa)，光(guang)(guang)(guang)學測(ce)(ce)(ce)量(liang)方法(fa)因(yin)為具(ju)有精度(du)(du)(du)高，速度(du)(du)(du)快，無損(sun)測(ce)(ce)(ce)量(liang)等(deng)(deng)優勢而成為主要的(de)(de)(de)檢測(ce)(ce)(ce)手段。其中(zhong)(zhong)具(ju)有代表(biao)性(xing)(xing)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)方法(fa)有橢圓(yuan)偏(pian)振(zhen)法(fa)，干涉(she)法(fa)，光(guang)(guang)(guang)譜法(fa)，棱鏡耦合法(fa)等(deng)(deng)。白光(guang)(guang)(guang)干涉(she)膜(mo)厚測(ce)(ce)(ce)量(liang)技(ji)術(shu)(shu)的(de)(de)(de)研(yan)究需(xu)要對(dui)光(guang)(guang)(guang)學理(li)論和(he)光(guang)(guang)(guang)學儀器(qi)有較深入(ru)的(de)(de)(de)了(le)解。珠海小型膜(mo)厚儀

光譜(pu)(pu)法是(shi)以(yi)(yi)光的(de)(de)干(gan)涉效應(ying)為基(ji)(ji)礎(chu)的(de)(de)一(yi)(yi)種薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)度(du)(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)方法，分為反(fan)射(she)(she)法和透射(she)(she)法兩(liang)類[12]。入射(she)(she)光在(zai)(zai)薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)-基(ji)(ji)底-薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)界面(mian)上的(de)(de)反(fan)射(she)(she)和透射(she)(she)會引起多(duo)光束干(gan)涉效應(ying)，不(bu)同(tong)(tong)特性的(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)材(cai)料的(de)(de)反(fan)射(she)(she)率(lv)和透過率(lv)曲線是(shi)不(bu)同(tong)(tong)的(de)(de)，并(bing)且(qie)在(zai)(zai)全光譜(pu)(pu)范(fan)圍內與(yu)厚(hou)度(du)(du)(du)之間是(shi)一(yi)(yi)一(yi)(yi)對應(ying)關(guan)系。因(yin)此(ci)，根據這(zhe)一(yi)(yi)光譜(pu)(pu)特性可以(yi)(yi)得到薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)(du)(du)以(yi)(yi)及光學參(can)數。光譜(pu)(pu)法的(de)(de)優點是(shi)可以(yi)(yi)同(tong)(tong)時測(ce)(ce)量(liang)(liang)多(duo)個參(can)數且(qie)可以(yi)(yi)有效的(de)(de)排除解的(de)(de)多(duo)值性，測(ce)(ce)量(liang)(liang)范(fan)圍廣，是(shi)一(yi)(yi)種無損(sun)測(ce)(ce)量(liang)(liang)技術；缺點是(shi)對樣品薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)表面(mian)條件的(de)(de)依賴(lai)性強，測(ce)(ce)量(liang)(liang)穩(wen)定性較差，因(yin)而測(ce)(ce)量(liang)(liang)精度(du)(du)(du)不(bu)高(gao)；對于不(bu)同(tong)(tong)材(cai)料的(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)需(xu)要(yao)使用不(bu)同(tong)(tong)波(bo)段的(de)(de)光源(yuan)等。目前，這(zhe)種方法主要(yao)應(ying)用于有機薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)。高(gao)精度(du)(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)儀免費(fei)咨(zi)詢白光干(gan)涉膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)技術可以(yi)(yi)應(ying)用于納米制造中的(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)度(du)(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)。

對(dui)同(tong)一靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)相同(tong)位置進行白光(guang)垂直(zhi)掃描(miao)干涉(she)，圖4-3是靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)垂直(zhi)掃描(miao)干涉(she)示(shi)意(yi)圖，通(tong)過(guo)控(kong)制光(guang)學輪廓儀的(de)(de)運(yun)動機構帶動干涉(she)物鏡在垂直(zhi)方向上(shang)的(de)(de)移動，從而測(ce)量到光(guang)線穿(chuan)過(guo)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)后反射到參(can)考(kao)鏡與(yu)到達基底直(zhi)接反射回(hui)參(can)考(kao)鏡的(de)(de)光(guang)線之間的(de)(de)光(guang)程差，顯然，當(dang)一束平行光(guang)穿(chuan)過(guo)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)后，偏離(li)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)中心越遠的(de)(de)光(guang)線，測(ce)量到的(de)(de)有效壁厚(hou)越大(da)，其光(guang)程差也越大(da)，但這并不表示(shi)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼層的(de)(de)厚(hou)度(du)，當(dang)垂直(zhi)穿(chuan)過(guo)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)中心的(de)(de)光(guang)線測(ce)得的(de)(de)光(guang)程差才對(dui)應靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)上(shang)、下殼層的(de)(de)厚(hou)度(du)。

靶(ba)(ba)丸(wan)殼層折(zhe)射(she)(she)率、厚(hou)度(du)(du)及(ji)(ji)(ji)(ji)其(qi)分(fen)(fen)布(bu)參(can)(can)數(shu)是激光(guang)(guang)慣性約束聚(ju)變（ICF）物理實(shi)(shi)(shi)驗中(zhong)(zhong)非常關(guan)鍵的(de)(de)(de)參(can)(can)數(shu)，精(jing)密(mi)(mi)測量(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)殼層折(zhe)射(she)(she)率、厚(hou)度(du)(du)及(ji)(ji)(ji)(ji)其(qi)分(fen)(fen)布(bu)對(dui)ICF精(jing)密(mi)(mi)物理實(shi)(shi)(shi)驗研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)具(ju)有非常重要(yao)的(de)(de)(de)意義。由于靶(ba)(ba)丸(wan)尺寸微小(xiao)（亞(ya)毫米(mi)量(liang)級）、結(jie)構(gou)特殊（球形結(jie)構(gou)）、測量(liang)精(jing)度(du)(du)要(yao)求高，如(ru)何實(shi)(shi)(shi)現靶(ba)(ba)丸(wan)殼層折(zhe)射(she)(she)率及(ji)(ji)(ji)(ji)其(qi)厚(hou)度(du)(du)分(fen)(fen)布(bu)的(de)(de)(de)精(jing)密(mi)(mi)測量(liang)是靶(ba)(ba)參(can)(can)數(shu)測量(liang)技(ji)(ji)術(shu)研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)中(zhong)(zhong)重要(yao)的(de)(de)(de)研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)內(nei)容。本(ben)論文針對(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)殼層折(zhe)射(she)(she)率及(ji)(ji)(ji)(ji)厚(hou)度(du)(du)分(fen)(fen)布(bu)的(de)(de)(de)精(jing)密(mi)(mi)測量(liang)需(xu)求，開展了基于白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)技(ji)(ji)術(shu)的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)殼層折(zhe)射(she)(she)率及(ji)(ji)(ji)(ji)厚(hou)度(du)(du)分(fen)(fen)布(bu)測量(liang)技(ji)(ji)術(shu)研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)。白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)膜厚(hou)測量(liang)技(ji)(ji)術(shu)的(de)(de)(de)應用涵蓋了材料科學、光(guang)(guang)學制造、電子(zi)工業等多個領(ling)域。

為了分析白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)范圍(wei)，開展了不(bu)同壁(bi)厚(hou)(hou)(hou)的(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)(ce)(ce)量(liang)實(shi)(shi)(shi)驗。圖是不(bu)同殼(ke)(ke)層(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)(ce)(ce)量(liang)曲線(xian)，如圖所示，對于(yu)殼(ke)(ke)層(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)30μm的(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)，其(qi)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)各譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)非常密集、干涉(she)級(ji)次(ci)數值大(da)；此外(wai)，由于(yu)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)的(de)(de)(de)(de)吸(xi)收，壁(bi)厚(hou)(hou)(hou)較(jiao)大(da)的(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)信(xin)號(hao)強度(du)(du)(du)相對較(jiao)弱。隨著(zhu)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)進(jin)一(yi)(yi)(yi)步增加(jia)，其(qi)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)各譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)將更加(jia)密集，難以(yi)實(shi)(shi)(shi)現(xian)對各干涉(she)譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)波(bo)(bo)長的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)。為實(shi)(shi)(shi)現(xian)較(jiao)大(da)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)(ce)(ce)量(liang)，需采用紅(hong)外(wai)的(de)(de)(de)(de)寬(kuan)譜(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源和(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)探(tan)測(ce)(ce)(ce)器。對于(yu)殼(ke)(ke)層(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)為μm的(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)，測(ce)(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)波(bo)(bo)峰(feng)相對較(jiao)少，容(rong)易實(shi)(shi)(shi)現(xian)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)波(bo)(bo)長的(de)(de)(de)(de)準確測(ce)(ce)(ce)量(liang)；隨著(zhu)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)進(jin)一(yi)(yi)(yi)步減小(xiao)，兩干涉(she)信(xin)號(hao)之間(jian)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)差(cha)異非常小(xiao)，以(yi)至于(yu)他們(men)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)信(xin)號(hao)中只(zhi)有一(yi)(yi)(yi)個干涉(she)波(bo)(bo)峰(feng)，基于(yu)峰(feng)值探(tan)測(ce)(ce)(ce)的(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)方法(fa)難以(yi)實(shi)(shi)(shi)現(xian)其(qi)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)；為實(shi)(shi)(shi)現(xian)較(jiao)小(xiao)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)(ce)(ce)量(liang)，可(ke)采用紫外(wai)的(de)(de)(de)(de)寬(kuan)譜(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源和(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)探(tan)測(ce)(ce)(ce)器提升其(qi)探(tan)測(ce)(ce)(ce)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)下限(xian)。白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)膜厚(hou)(hou)(hou)測(ce)(ce)(ce)量(liang)技術可(ke)以(yi)應(ying)用于(yu)太(tai)陽能電池中的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)學參數測(ce)(ce)(ce)量(liang)。高精度(du)(du)(du)膜厚(hou)(hou)(hou)儀推薦

白光干涉(she)膜厚(hou)(hou)測量(liang)技術可(ke)以通過對(dui)干涉(she)圖像的(de)分(fen)析實(shi)現對(dui)薄膜的(de)形貌測量(liang)。珠海(hai)小型膜厚(hou)(hou)儀

在激(ji)光(guang)慣性(xing)(xing)(xing)約束核(he)聚變(bian)(bian)(bian)實(shi)(shi)驗(yan)(yan)(yan)中，靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)物性(xing)(xing)(xing)參(can)數(shu)和幾何(he)參(can)數(shu)是靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)制備工藝改進(jin)(jin)和仿真模擬(ni)核(he)聚變(bian)(bian)(bian)實(shi)(shi)驗(yan)(yan)(yan)過(guo)程的(de)基(ji)礎，因此如何(he)對(dui)(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)多個參(can)數(shu)進(jin)(jin)行(xing)同步、高(gao)精度、無(wu)損的(de)綜合檢(jian)測(ce)是激(ji)光(guang)慣性(xing)(xing)(xing)約束核(he)聚變(bian)(bian)(bian)實(shi)(shi)驗(yan)(yan)(yan)中的(de)關鍵問(wen)(wen)題。以(yi)上各(ge)種薄(bo)膜(mo)厚度及折射率(lv)(lv)的(de)測(ce)量(liang)(liang)(liang)方法各(ge)有利弊，但針(zhen)對(dui)(dui)本文(wen)實(shi)(shi)驗(yan)(yan)(yan)，仍然無(wu)法滿足(zu)激(ji)光(guang)核(he)聚變(bian)(bian)(bian)技術對(dui)(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)參(can)數(shu)測(ce)量(liang)(liang)(liang)的(de)高(gao)要求，靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)參(can)數(shu)測(ce)量(liang)(liang)(liang)存在以(yi)下(xia)(xia)問(wen)(wen)題：不能對(dui)(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)進(jin)(jin)行(xing)破壞性(xing)(xing)(xing)切割測(ce)量(liang)(liang)(liang)，否則，被破壞后的(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)無(wu)法用于(yu)(yu)于(yu)(yu)下(xia)(xia)一(yi)步工藝處理或者打靶(ba)(ba)實(shi)(shi)驗(yan)(yan)(yan)；需要同時測(ce)得靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)多個參(can)數(shu)，不同參(can)數(shu)的(de)單獨(du)測(ce)量(liang)(liang)(liang)，無(wu)法提(ti)供靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)制備和核(he)聚變(bian)(bian)(bian)反(fan)應(ying)(ying)過(guo)程中發生的(de)結構(gou)變(bian)(bian)(bian)化現象和規律(lv)，并(bing)且效率(lv)(lv)低下(xia)(xia)、沒(mei)有統一(yi)的(de)測(ce)量(liang)(liang)(liang)標準(zhun)。靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)屬(shu)于(yu)(yu)自支撐(cheng)球形薄(bo)膜(mo)結構(gou)，曲面(mian)應(ying)(ying)力(li)大、難展平的(de)特(te)點導(dao)致靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)與(yu)基(ji)底不能完(wan)全貼合，在微(wei)區內可看作類(lei)薄(bo)膜(mo)結構(gou)珠海小型(xing)膜(mo)厚儀

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