光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)測(ce)(ce)厚(hou)方法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)集(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)、機械(xie)、電(dian)子、計算(suan)機圖像處理技術為一體，以(yi)其光(guang)(guang)(guang)(guang)波長為測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)基準，從(cong)原理上保證了納(na)米級的測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)精度。同時，光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)測(ce)(ce)厚(hou)作為非接觸式(shi)的測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)，被廣泛應用于精密(mi)元件表面形貌及厚(hou)度的無損(sun)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)。其中，薄膜(mo)厚(hou)度光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)按(an)光(guang)(guang)(guang)(guang)吸收、透反射(she)、偏(pian)(pian)(pian)振和干(gan)涉(she)(she)(she)等(deng)光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)原理可分為分光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)度法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)、橢圓偏(pian)(pian)(pian)振法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)、干(gan)涉(she)(she)(she)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)等(deng)多種測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)。不(bu)同的測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)，其適用范圍各有側(ce)重，褒貶不(bu)一。因此結(jie)合(he)多種測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)的多通(tong)道式(shi)復合(he)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)也有研究，如橢圓偏(pian)(pian)(pian)振法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)和光(guang)(guang)(guang)(guang)度法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)結(jie)合(he)的光(guang)(guang)(guang)(guang)譜橢偏(pian)(pian)(pian)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)，彩色(se)共焦(jiao)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜干(gan)涉(she)(she)(she)和白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)顯微(wei)干(gan)涉(she)(she)(she)的結(jie)合(he)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)等(deng)。白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)(she)膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)技術可以(yi)對薄膜(mo)的各項光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)參數(shu)進行聯合(he)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)和分析。嘉定區原裝膜(mo)厚(hou)儀

本(ben)章主要介紹了基于(yu)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)和(he)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)垂直(zhi)掃描干(gan)(gan)涉聯用的(de)靶(ba)(ba)丸殼層折射率測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量方(fang)法(fa)。該(gai)方(fang)法(fa)利(li)(li)用白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量靶(ba)(ba)丸殼層光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)學厚(hou)度，利(li)(li)用白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)垂直(zhi)掃描干(gan)(gan)涉技(ji)術測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)線通過靶(ba)(ba)丸殼層后的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程增量，二者聯立即可(ke)(ke)求得靶(ba)(ba)丸折射率和(he)厚(hou)度數據(ju)。在實驗(yan)數據(ju)處理方(fang)面，為(wei)解決(jue)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)中波(bo)峰位置難以(yi)精確確定(ding)和(he)單極值(zhi)點判(pan)(pan)讀可(ke)(ke)能存在干(gan)(gan)涉級次(ci)(ci)誤差的(de)問題，提出MATLAB曲(qu)線擬(ni)合(he)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)定(ding)極值(zhi)點波(bo)長以(yi)及利(li)(li)用干(gan)(gan)涉級次(ci)(ci)連(lian)續性進行干(gan)(gan)涉級次(ci)(ci)判(pan)(pan)定(ding)的(de)數據(ju)處理方(fang)法(fa)。應用碳(tan)氫(CH)薄膜(mo)對測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量結果的(de)可(ke)(ke)靠性進行了實驗(yan)驗(yan)證。大連(lian)品牌膜(mo)厚(hou)儀白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量技(ji)術可(ke)(ke)以(yi)應用于(yu)不同材料的(de)薄膜(mo)的(de)研(yan)究和(he)制(zhi)造中。

白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)分(fen)析是目前白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉測(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)的(de)一個重要(yao)方(fang)向，此項(xiang)技術主要(yao)是利(li)用光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀將對(dui)條紋的(de)測(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)轉變成(cheng)為對(dui)不同波長(chang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的(de)測(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)。通過分(fen)析被測(ce)物體的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)特性，就能夠得到(dao)相應(ying)的(de)長(chang)度(du)信(xin)息(xi)和(he)形貌信(xin)息(xi)。相比于(yu)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)掃描干涉術，它不需要(yao)大量(liang)(liang)(liang)(liang)的(de)掃描過程，因此提高(gao)了(le)測(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)效率，而(er)且也(ye)減小了(le)環(huan)境對(dui)它的(de)影響。此項(xiang)技術能夠測(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)距(ju)離、位(wei)移、塊狀材料的(de)群(qun)折射(she)率以及多層薄(bo)膜厚(hou)度(du)。白(bai)(bai)(bai)干干涉光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)法是基(ji)于(yu)頻(pin)域(yu)干涉的(de)理論，采用白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)作為寬波段(duan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源，經(jing)(jing)過分(fen)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)棱(leng)鏡(jing)，被分(fen)成(cheng)兩(liang)束(shu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)，這(zhe)兩(liang)束(shu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)分(fen)別(bie)入射(she)到(dao)參考面和(he)被測(ce)物體，反射(she)回(hui)來后(hou)經(jing)(jing)過分(fen)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)棱(leng)鏡(jing)合(he)成(cheng)后(hou)，由(you)色(se)散(san)元件分(fen)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)至探(tan)測(ce)器，記錄頻(pin)域(yu)上的(de)干涉信(xin)號。此光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)信(xin)號包含了(le)被測(ce)表面的(de)信(xin)息(xi)，如果(guo)此時被測(ce)物體是薄(bo)膜，則薄(bo)膜的(de)厚(hou)度(du)也(ye)包含在(zai)這(zhe)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)信(xin)號當中。這(zhe)樣就把白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉的(de)精(jing)度(du)和(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)測(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)的(de)速度(du)結(jie)合(he)起來，形成(cheng)了(le)一種(zhong)精(jing)度(du)高(gao)而(er)且速度(du)快的(de)測(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方(fang)法。

根(gen)據以(yi)(yi)上(shang)分(fen)(fen)(fen)析(xi)可(ke)知(zhi)，白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)時(shi)(shi)域(yu)解(jie)調(diao)(diao)方(fang)(fang)案的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)優(you)點(dian)是：①能夠實現測(ce)量(liang)(liang)；②抗(kang)干(gan)(gan)擾能力(li)強，系統(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率與(yu)光(guang)源(yuan)(yuan)輸出功率的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)波動(dong)，光(guang)源(yuan)(yuan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)波長(chang)漂(piao)移以(yi)(yi)及外界環境對(dui)(dui)光(guang)纖(xian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)擾動(dong)等因素無關(guan)；③測(ce)量(liang)(liang)精(jing)度與(yu)零(ling)級干(gan)(gan)涉(she)(she)條(tiao)紋(wen)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)確定(ding)精(jing)度以(yi)(yi)及反(fan)射鏡的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)精(jing)度有關(guan)；④結構簡(jian)單，成本較低。但是，時(shi)(shi)域(yu)解(jie)調(diao)(diao)方(fang)(fang)法需要(yao)借(jie)助掃(sao)描(miao)部件移動(dong)干(gan)(gan)涉(she)(she)儀一(yi)端(duan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)反(fan)射鏡來進行相(xiang)位(wei)補償(chang)，所以(yi)(yi)掃(sao)描(miao)裝(zhuang)置(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率將影響系統(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)精(jing)度。采用這種解(jie)調(diao)(diao)方(fang)(fang)案的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率一(yi)般是幾個微(wei)米(mi)，達到亞(ya)微(wei)米(mi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率，主(zhu)要(yao)受(shou)機械掃(sao)描(miao)部件的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率和穩定(ding)性限制。文獻[46]所報道的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)移掃(sao)描(miao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率可(ke)以(yi)(yi)達到0.54μm。當所測(ce)光(guang)程差較小時(shi)(shi)，F-P腔前后表面干(gan)(gan)涉(she)(she)峰值(zhi)相(xiang)距很近，難(nan)以(yi)(yi)區分(fen)(fen)(fen)，此時(shi)(shi)時(shi)(shi)域(yu)解(jie)調(diao)(diao)方(fang)(fang)案的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)應用受(shou)到限制。白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)膜厚測(ce)量(liang)(liang)技術可(ke)以(yi)(yi)對(dui)(dui)薄膜的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)表面和內(nei)部進行聯合測(ce)量(liang)(liang)和分(fen)(fen)(fen)析(xi)。

極值(zhi)法求(qiu)解過(guo)(guo)程計算(suan)簡單，速度(du)快，同(tong)時確(que)定薄(bo)膜的(de)(de)(de)(de)多(duo)個光(guang)(guang)(guang)學(xue)常數(shu)及解決多(duo)值(zhi)性問題，測試范(fan)圍廣，但沒有考慮(lv)薄(bo)膜均勻性和基(ji)底色散的(de)(de)(de)(de)因(yin)素，以(yi)至于(yu)精度(du)不夠(gou)高(gao)。此(ci)外(wai)，由于(yu)受曲線擬合(he)精度(du)的(de)(de)(de)(de)限制，該方法對膜厚(hou)的(de)(de)(de)(de)測量(liang)(liang)范(fan)圍有要求(qiu)，通常用(yong)這種方法測量(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜厚(hou)度(du)應大于(yu)200nm且小(xiao)于(yu)10μm，以(yi)確(que)保光(guang)(guang)(guang)譜(pu)信號(hao)中的(de)(de)(de)(de)干涉波峰數(shu)恰當。全光(guang)(guang)(guang)譜(pu)擬合(he)法是基(ji)于(yu)客觀(guan)條件或(huo)(huo)基(ji)本常識來設置每個擬合(he)參數(shu)上(shang)限、下限，并為該區域的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜生成一組(zu)或(huo)(huo)多(duo)組(zu)光(guang)(guang)(guang)學(xue)參數(shu)及厚(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)初始值(zhi)，引入(ru)適合(he)的(de)(de)(de)(de)色散模型，再根據麥克斯韋(wei)方程組(zu)的(de)(de)(de)(de)推導。這樣(yang)求(qiu)得的(de)(de)(de)(de)值(zhi)自然和實際的(de)(de)(de)(de)透過(guo)(guo)率(lv)和反(fan)射(she)率(lv)（通過(guo)(guo)光(guang)(guang)(guang)學(xue)系(xi)統(tong)直接測量(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜透射(she)率(lv)或(huo)(huo)反(fan)射(she)率(lv)）有所不同(tong)，建立評價函(han)數(shu)，當計算(suan)的(de)(de)(de)(de)透過(guo)(guo)率(lv)/反(fan)射(she)率(lv)與實際值(zhi)之間的(de)(de)(de)(de)偏差小(xiao)時，我們就可以(yi)認為預(yu)設的(de)(de)(de)(de)初始值(zhi)就是要測量(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜參數(shu)。白光(guang)(guang)(guang)干涉膜厚(hou)測量(liang)(liang)技(ji)術可以(yi)應用(yong)于(yu)材料科(ke)學(xue)中的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜微結構(gou)分析。內蒙古膜厚(hou)儀(yi)廠家(jia)現貨(huo)

白光干涉膜(mo)厚測量技術(shu)可以應用于光學傳(chuan)感(gan)器中(zhong)的薄膜(mo)厚度測量。嘉(jia)定區(qu)原裝膜(mo)厚儀

白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)掃描(miao)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)能免除色光(guang)(guang)(guang)相(xiang)移(yi)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)術(shu)測(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)局限性。白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)掃描(miao)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)采用白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)作(zuo)為光(guang)(guang)(guang)源，白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)作(zuo)為一(yi)(yi)種寬(kuan)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)源，相(xiang)干(gan)長(chang)度(du)較短，因此發生(sheng)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)置只能在(zai)很(hen)小的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)空(kong)間范(fan)圍內。而且(qie)在(zai)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)時(shi)(shi)，有(you)一(yi)(yi)個確切的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)零點位(wei)(wei)置。測(ce)(ce)量(liang)光(guang)(guang)(guang)和參(can)考光(guang)(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)程(cheng)相(xiang)等(deng)時(shi)(shi)，所有(you)波(bo)段的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)都會發生(sheng)相(xiang)長(chang)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)，這時(shi)(shi)就(jiu)(jiu)能觀測(ce)(ce)到有(you)一(yi)(yi)個很(hen)明亮的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)零級條紋，同(tong)時(shi)(shi)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)信(xin)號也出(chu)現最大值(zhi)，通(tong)過(guo)分析這個干(gan)涉(she)(she)(she)(she)信(xin)號，就(jiu)(jiu)能得(de)(de)(de)到表面上對應(ying)數據點的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)相(xiang)對高(gao)度(du)，從(cong)而得(de)(de)(de)到被(bei)測(ce)(ce)物體的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)幾何形(xing)貌。白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)掃描(miao)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)術(shu)是(shi)通(tong)過(guo)測(ce)(ce)量(liang)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)條紋來完成(cheng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)，而干(gan)涉(she)(she)(she)(she)條紋的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)清晰度(du)直接影響(xiang)測(ce)(ce)試精(jing)度(du)。因此，為了(le)提高(gao)精(jing)度(du)，就(jiu)(jiu)需要更為復雜(za)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)學系統，這使得(de)(de)(de)條紋的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)變成(cheng)一(yi)(yi)項費力又費時(shi)(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)工作(zuo)。嘉定區原(yuan)裝膜厚儀

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