針對靶(ba)(ba)丸(wan)自身獨特(te)的特(te)點及極端實(shi)驗條件需(xu)求，使(shi)得(de)靶(ba)(ba)丸(wan)參(can)(can)(can)數(shu)(shu)的測(ce)(ce)試工(gong)作(zuo)變得(de)異常(chang)(chang)(chang)復雜。如(ru)(ru)何精確地測(ce)(ce)定靶(ba)(ba)丸(wan)的光(guang)學(xue)(xue)參(can)(can)(can)數(shu)(shu)，一直是激(ji)光(guang)聚變研究者非常(chang)(chang)(chang)關注的課題。由于光(guang)學(xue)(xue)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)具(ju)有(you)(you)無損(sun)、非接觸、測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)效(xiao)率(lv)高、操作(zuo)簡便(bian)等(deng)優越(yue)性，靶(ba)(ba)丸(wan)參(can)(can)(can)數(shu)(shu)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)通常(chang)(chang)(chang)采用(yong)(yong)光(guang)學(xue)(xue)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方式(shi)。常(chang)(chang)(chang)用(yong)(yong)的光(guang)學(xue)(xue)參(can)(can)(can)數(shu)(shu)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)手段很多，目前，常(chang)(chang)(chang)用(yong)(yong)于測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)幾何參(can)(can)(can)數(shu)(shu)或光(guang)學(xue)(xue)參(can)(can)(can)數(shu)(shu)的測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)有(you)(you)白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉法(fa)、光(guang)學(xue)(xue)顯微干(gan)(gan)涉法(fa)、激(ji)光(guang)差動共焦法(fa)等(deng)。靶(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)層(ceng)折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)是沖擊波分時調控實(shi)驗研究中的重要參(can)(can)(can)數(shu)(shu)，因此，精密測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)層(ceng)折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)十分有(you)(you)意義(yi)。而常(chang)(chang)(chang)用(yong)(yong)的折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)[13]，如(ru)(ru)橢(tuo)圓(yuan)偏振法(fa)、折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)匹配(pei)法(fa)、白(bai)光(guang)光(guang)譜法(fa)、布儒斯特(te)角法(fa)等(deng)。白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉膜厚(hou)(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)技術可(ke)以實(shi)現對薄膜厚(hou)(hou)度的在線檢測(ce)(ce)和自動控制。安陽膜厚(hou)(hou)儀的用(yong)(yong)途和特(te)點

利用(yong)(yong)包絡(luo)線(xian)(xian)(xian)法(fa)(fa)(fa)(fa)計算薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)光學常數和厚度，但(dan)目前看來包絡(luo)法(fa)(fa)(fa)(fa)還存(cun)在(zai)很多(duo)不(bu)足，包絡(luo)線(xian)(xian)(xian)法(fa)(fa)(fa)(fa)需要產生(sheng)干(gan)(gan)(gan)涉(she)波(bo)動(dong)，要求在(zai)測(ce)(ce)(ce)量(liang)波(bo)段內存(cun)在(zai)多(duo)個干(gan)(gan)(gan)涉(she)極(ji)值(zhi)(zhi)(zhi)點(dian)，且(qie)干(gan)(gan)(gan)涉(she)極(ji)值(zhi)(zhi)(zhi)點(dian)足夠多(duo)，精度才高(gao)。理想的(de)(de)(de)(de)包絡(luo)線(xian)(xian)(xian)是根(gen)據(ju)聯合透射(she)曲線(xian)(xian)(xian)的(de)(de)(de)(de)切(qie)點(dian)建(jian)立(li)(li)(li)的(de)(de)(de)(de)，在(zai)沒有正(zheng)確方(fang)(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)建(jian)立(li)(li)(li)包絡(luo)線(xian)(xian)(xian)時，通常使用(yong)(yong)拋物(wu)線(xian)(xian)(xian)插(cha)值(zhi)(zhi)(zhi)法(fa)(fa)(fa)(fa)建(jian)立(li)(li)(li)，這樣(yang)造成的(de)(de)(de)(de)誤差較大(da)。包絡(luo)法(fa)(fa)(fa)(fa)對(dui)測(ce)(ce)(ce)量(liang)對(dui)象(xiang)要求高(gao)，如果薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)較薄(bo)(bo)或厚度不(bu)足情況下，會造成干(gan)(gan)(gan)涉(she)條(tiao)紋(wen)減少，干(gan)(gan)(gan)涉(she)波(bo)峰個數較少，要利用(yong)(yong)干(gan)(gan)(gan)涉(she)極(ji)值(zhi)(zhi)(zhi)點(dian)建(jian)立(li)(li)(li)包絡(luo)線(xian)(xian)(xian)就(jiu)越困難(nan)，且(qie)利用(yong)(yong)拋物(wu)線(xian)(xian)(xian)插(cha)值(zhi)(zhi)(zhi)法(fa)(fa)(fa)(fa)擬合也(ye)很困難(nan)，從而降(jiang)低該(gai)方(fang)(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)的(de)(de)(de)(de)準確度。其次，薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)吸(xi)收(shou)的(de)(de)(de)(de)強弱也(ye)會影響該(gai)方(fang)(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)的(de)(de)(de)(de)準確度，對(dui)于(yu)吸(xi)收(shou)較強的(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，隨干(gan)(gan)(gan)涉(she)條(tiao)紋(wen)減少，極(ji)大(da)值(zhi)(zhi)(zhi)與極(ji)小值(zhi)(zhi)(zhi)包絡(luo)線(xian)(xian)(xian)逐漸匯聚成一條(tiao)曲線(xian)(xian)(xian)，該(gai)方(fang)(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)就(jiu)不(bu)再適(shi)用(yong)(yong)。因此，包絡(luo)法(fa)(fa)(fa)(fa)適(shi)用(yong)(yong)于(yu)膜(mo)(mo)(mo)(mo)層較厚且(qie)弱吸(xi)收(shou)的(de)(de)(de)(de)樣(yang)品。咸寧膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚儀廠家白(bai)光干(gan)(gan)(gan)涉(she)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚測(ce)(ce)(ce)量(liang)技術可以實現(xian)對(dui)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)快速測(ce)(ce)(ce)量(liang)和分析(xi)。

對(dui)同一靶(ba)丸(wan)相同位置(zhi)進行白光(guang)(guang)(guang)垂直掃(sao)描(miao)(miao)干(gan)涉，圖(tu)4-3是靶(ba)丸(wan)的(de)(de)(de)(de)垂直掃(sao)描(miao)(miao)干(gan)涉示意圖(tu)，通過控制光(guang)(guang)(guang)學輪廓儀的(de)(de)(de)(de)運動(dong)(dong)(dong)機構帶(dai)動(dong)(dong)(dong)干(gan)涉物鏡(jing)在垂直方向上的(de)(de)(de)(de)移動(dong)(dong)(dong)，從而測(ce)量(liang)到(dao)光(guang)(guang)(guang)線(xian)穿(chuan)過靶(ba)丸(wan)后(hou)反(fan)射到(dao)參(can)考鏡(jing)與到(dao)達基底直接反(fan)射回參(can)考鏡(jing)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)線(xian)之間的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)，顯(xian)然，當一束(shu)平行光(guang)(guang)(guang)穿(chuan)過靶(ba)丸(wan)后(hou)，偏離靶(ba)丸(wan)中心(xin)越(yue)(yue)遠的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)線(xian)，測(ce)量(liang)到(dao)的(de)(de)(de)(de)有效(xiao)壁(bi)厚(hou)越(yue)(yue)大，其光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)也(ye)越(yue)(yue)大，但這并不表示靶(ba)丸(wan)殼層(ceng)的(de)(de)(de)(de)厚(hou)度，當垂直穿(chuan)過靶(ba)丸(wan)中心(xin)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)線(xian)測(ce)得的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)才對(dui)應靶(ba)丸(wan)的(de)(de)(de)(de)上、下殼層(ceng)的(de)(de)(de)(de)厚(hou)度。

微(wei)納制(zhi)造(zao)技術的(de)(de)發(fa)展(zhan)推動著檢測(ce)(ce)(ce)(ce)技術向微(wei)納領域進(jin)軍，微(wei)結(jie)(jie)構和(he)薄膜結(jie)(jie)構作(zuo)為(wei)微(wei)納器件中的(de)(de)重要(yao)組(zu)成部(bu)分，在半導體、醫學、航天航空(kong)、現代制(zhi)造(zao)等領域得(de)到了廣泛的(de)(de)應用，由于其(qi)微(wei)小(xiao)和(he)精細的(de)(de)特征，傳統檢測(ce)(ce)(ce)(ce)方(fang)(fang)法(fa)不能(neng)滿(man)足要(yao)求。白光(guang)干(gan)(gan)涉法(fa)具(ju)有(you)非接觸、無損(sun)傷、高精度等特點(dian)，被廣泛應用在微(wei)納檢測(ce)(ce)(ce)(ce)領域，另外光(guang)譜測(ce)(ce)(ce)(ce)量具(ju)有(you)高效率、測(ce)(ce)(ce)(ce)量速(su)度快的(de)(de)優點(dian)。因此，本文提(ti)出(chu)了白光(guang)干(gan)(gan)涉光(guang)譜測(ce)(ce)(ce)(ce)量方(fang)(fang)法(fa)并搭建了測(ce)(ce)(ce)(ce)量系統。和(he)傳統白光(guang)掃描干(gan)(gan)涉方(fang)(fang)法(fa)相比，其(qi)特點(dian)是具(ju)有(you)較強(qiang)的(de)(de)環境噪(zao)聲(sheng)抵御能(neng)力，并且測(ce)(ce)(ce)(ce)量速(su)度較快。白光(guang)干(gan)(gan)涉膜厚測(ce)(ce)(ce)(ce)量技術可(ke)以應用于光(guang)學涂(tu)層中的(de)(de)薄膜反射率測(ce)(ce)(ce)(ce)量。

與激光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源相比以白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)寬光(guang)(guang)(guang)(guang)譜光(guang)(guang)(guang)(guang)源由于(yu)具有(you)短相干長(chang)(chang)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)特(te)點使(shi)得兩光(guang)(guang)(guang)(guang)束只(zhi)有(you)在光(guang)(guang)(guang)(guang)程差極小(xiao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)情況(kuang)下才(cai)能(neng)發生干涉(she)(she)因(yin)此不(bu)會產(chan)生干擾條紋(wen)。同(tong)時由于(yu)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)產(chan)生的(de)(de)(de)(de)(de)(de)干涉(she)(she)條紋(wen)具有(you)明顯(xian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)零光(guang)(guang)(guang)(guang)程差位(wei)置(zhi)避免了干涉(she)(she)級次不(bu)確定的(de)(de)(de)(de)(de)(de)問題。本文(wen)以白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)原(yuan)(yuan)理(li)為理(li)論基(ji)礎(chu)對單層透明薄(bo)(bo)膜厚(hou)(hou)度(du)(du)測(ce)(ce)(ce)量尤(you)其對厚(hou)(hou)度(du)(du)小(xiao)于(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)源相干長(chang)(chang)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜厚(hou)(hou)度(du)(du)測(ce)(ce)(ce)量進(jin)(jin)行(xing)(xing)了研究。首先從白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)測(ce)(ce)(ce)量薄(bo)(bo)膜厚(hou)(hou)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)原(yuan)(yuan)理(li)出發、分(fen)別詳細闡述了白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)原(yuan)(yuan)理(li)和薄(bo)(bo)膜測(ce)(ce)(ce)厚(hou)(hou)原(yuan)(yuan)理(li)。接著在金相顯(xian)微鏡的(de)(de)(de)(de)(de)(de)基(ji)礎(chu)上構建了型垂直白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)掃描(miao)系統作為實驗中測(ce)(ce)(ce)試薄(bo)(bo)膜厚(hou)(hou)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)儀器并利(li)用白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)原(yuan)(yuan)理(li)對的(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)移(yi)量進(jin)(jin)行(xing)(xing)了標定。白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)膜厚(hou)(hou)測(ce)(ce)(ce)量技(ji)術可以對不(bu)同(tong)材料(liao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜進(jin)(jin)行(xing)(xing)聯合(he)測(ce)(ce)(ce)量和分(fen)析。咸寧膜厚(hou)(hou)儀廠(chang)家

白光(guang)干涉膜(mo)(mo)厚測量技術(shu)的研究需要對光(guang)學(xue)理(li)論和光(guang)學(xue)儀(yi)器有較深入的了解。安陽膜(mo)(mo)厚儀(yi)的用途和特點(dian)

薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)作(zuo)為重要(yao)元件(jian)，通(tong)常使用(yong)(yong)(yong)金(jin)屬、合金(jin)、化合物、聚(ju)合物等(deng)作(zuo)為其主(zhu)(zhu)要(yao)基材(cai)，品類涵蓋光(guang)學(xue)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、電隔(ge)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、阻隔(ge)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、保(bao)護膜(mo)(mo)(mo)(mo)、裝(zhuang)飾(shi)膜(mo)(mo)(mo)(mo)等(deng)多種功(gong)能性薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，廣(guang)泛應用(yong)(yong)(yong)于(yu)現代光(guang)學(xue)、電子、醫療、能源(yuan)、建材(cai)等(deng)技術領域。常用(yong)(yong)(yong)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)(hou)度范圍從納米(mi)(mi)級(ji)到微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)不(bu)等(deng)。納米(mi)(mi)和亞微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)主(zhu)(zhu)要(yao)是基于(yu)干涉效應調制的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)學(xue)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，包(bao)括各種增透增反膜(mo)(mo)(mo)(mo)、偏振膜(mo)(mo)(mo)(mo)、干涉濾光(guang)片和分(fen)光(guang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)等(deng)。部分(fen)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)經特(te)(te)(te)殊(shu)工(gong)藝處理后還具(ju)有耐(nai)高溫、耐(nai)腐蝕(shi)、耐(nai)磨損等(deng)特(te)(te)(te)性，對通(tong)訊、顯(xian)(xian)示、存儲(chu)等(deng)領域內光(guang)學(xue)儀器(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)質(zhi)量起決(jue)定(ding)性作(zuo)用(yong)(yong)(yong)[1-3]，如平面(mian)顯(xian)(xian)示器(qi)(qi)(qi)使用(yong)(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)ITO鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)，太陽(yang)能電池表面(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)SiO2減(jian)反射膜(mo)(mo)(mo)(mo)等(deng)。微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)以上的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)以工(gong)農業薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)為主(zhu)(zhu)，多使用(yong)(yong)(yong)聚(ju)酯材(cai)料(liao)，具(ju)有易改性、可回收、適用(yong)(yong)(yong)范圍廣(guang)等(deng)特(te)(te)(te)點。例如6微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)厚(hou)(hou)(hou)度以下(xia)的(de)(de)(de)(de)(de)電容器(qi)(qi)(qi)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，20微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)厚(hou)(hou)(hou)度以下(xia)的(de)(de)(de)(de)(de)大部分(fen)包(bao)裝(zhuang)印刷用(yong)(yong)(yong)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，25~38微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)厚(hou)(hou)(hou)的(de)(de)(de)(de)(de)建筑(zhu)玻璃貼(tie)膜(mo)(mo)(mo)(mo)及汽車貼(tie)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，以及厚(hou)(hou)(hou)度為25~65微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)的(de)(de)(de)(de)(de)防偽標(biao)牌及拉線膠帶(dai)等(deng)。微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)利用(yong)(yong)(yong)其良好的(de)(de)(de)(de)(de)延展(zhan)、密封、絕緣特(te)(te)(te)性，遍及食品包(bao)裝(zhuang)、表面(mian)保(bao)護、磁帶(dai)基材(cai)、感光(guang)儲(chu)能等(deng)應用(yong)(yong)(yong)市(shi)(shi)場，加工(gong)速(su)度快，市(shi)(shi)場占比高。安陽(yang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)儀的(de)(de)(de)(de)(de)用(yong)(yong)(yong)途和特(te)(te)(te)點

本文來自(zi)沈陽(yang)喜納多(duo)采暖工程有限公司：//zjlong.cn/Article/97a399619.html