光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)按應用領域分類，可分為(wei)(wei) PCB 光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)、顯示(shi)面板(ban)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)、半導體(ti)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)及其他光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)。全(quan)(quan)(quan)球(qiu)市(shi)場上不同種類光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)市(shi)場結構較為(wei)(wei)均衡。智研咨詢的(de)(de)數據還顯示(shi)，受益于半導體(ti)、顯示(shi)面板(ban)、PCB產(chan)業東(dong)移的(de)(de)趨勢(shi)，自 2011年(nian)至今，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)中(zhong)國(guo)(guo)本土(tu)供應規(gui)模(mo)年(nian)華增(zeng)長(chang)率達到11%，高(gao)于全(quan)(quan)(quan)球(qiu)平均 5%的(de)(de)增(zeng)速。2019年(nian)中(zhong)國(guo)(guo)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)市(shi)場本土(tu)企(qi)業銷售規(gui)模(mo)約70億元(yuan)，全(quan)(quan)(quan)球(qiu)占比(bi)(bi)約 10%，發展(zhan)空間巨(ju)大。目前，中(zhong)國(guo)(guo)本土(tu)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)以PCB用光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)為(wei)(wei)主，平板(ban)顯示(shi)、半導體(ti)用光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)供應量占比(bi)(bi)極(ji)低(di)。有機(ji)-無機(ji)雜化(hua)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)被認為(wei)(wei)是實現10nm以下工業化(hua)模(mo)式的(de)(de)理想材料(liao)。昆山i線(xian)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)光(guang)(guang)(guang)(guang)致抗蝕劑

除(chu)了(le)(le)枝狀(zhuang)分子(zi)(zi)之外，環狀(zhuang)單分子(zi)(zi)樹(shu)脂(zhi)近年(nian)(nian)來也得到了(le)(le)迅速(su)發展。這(zhe)些單分子(zi)(zi)樹(shu)脂(zhi)的(de)(de)環狀(zhuang)結(jie)(jie)構降(jiang)低了(le)(le)分子(zi)(zi)的(de)(de)柔性(xing)，從而通常具(ju)有(you)較高(gao)的(de)(de)玻璃化(hua)轉變溫度和(he)熱(re)化(hua)學穩定(ding)性(xing)。由于(yu)構象較多，此類(lei)分子(zi)(zi)也難以(yi)結(jie)(jie)晶，往(wang)往(wang)具(ju)有(you)很(hen)好的(de)(de)成膜(mo)性(xing)。起初將杯芳烴應(ying)用(yong)于(yu)光(guang)(guang)(guang)刻的(de)(de)是東京科(ke)技大學的(de)(de)Ueda課題組，2002年(nian)(nian)起，他們報道(dao)了(le)(le)具(ju)有(you)間苯二(er)酚結(jie)(jie)構的(de)(de)杯芳烴在365nm光(guang)(guang)(guang)刻中的(de)(de)應(ying)用(yong)。2007年(nian)(nian)，瑞(rui)士(shi)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)的(de)(de)Solak等利用(yong)對氯甲氧基(ji)杯芳烴獲得了(le)(le)線(xian)寬12.5nm、占空(kong)比1∶1的(de)(de)密集(ji)線(xian)條，但由于(yu)為非化(hua)學放大光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)，曝(pu)光(guang)(guang)(guang)機理為分子(zi)(zi)結(jie)(jie)構被破壞(huai)，靈(ling)敏度較差，為PMMA的(de)(de)1/5。江蘇光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)顯示面板材料(liao)彩色(se)光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)及黑色(se)光(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)(jiao)(jiao)市(shi)場也呈現(xian)日韓(han)企業(ye)主導(dao)的(de)(de)格局(ju)，國內企業(ye)有(you)雅克科(ke)技、飛凱材料(liao)、彤程新材等。

環狀單分子樹脂中除了杯芳烴類(lei)物質以外，還有(you)一類(lei)被稱為“水車”（Noria）的(de)光(guang)刻(ke)膠，該類(lei)化合(he)物由戊二(er)醛和間苯二(er)酚(fen)縮合(he)而成，是一種中心(xin)空腔的(de)雙層環梯狀結(jie)構分子，外形(xing)像傳統的(de)水車，因此得名，起初(chu)在(zai)2006年時由日本(ben)神奈川大學的(de)Nishikubo課題組報道出來(lai)。隨后，日本(ben)JSR公(gong)司的(de)Maruyama課題組將Noria改性，通過(guo)金剛烷基(ji)團保護得到(dao)了半周期為22nm的(de)光(guang)刻(ke)圖形(xing)。但是這種光(guang)刻(ke)膠的(de)靈(ling)敏度(du)較低(di)、粗糙度(du)較大，仍需進一步改進才(cai)能推(tui)廣應用。

光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)主(zhu)(zhu)(zhu)要(yao)由主(zhu)(zhu)(zhu)體(ti)材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)、光(guang)(guang)(guang)(guang)敏材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)、其他添加劑和(he)(he)溶劑組成(cheng)。從化學(xue)材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)角度(du)來(lai)看，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)內重要(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)成(cheng)分(fen)(fen)是主(zhu)(zhu)(zhu)體(ti)材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)和(he)(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)敏材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)。光(guang)(guang)(guang)(guang)敏材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)在光(guang)(guang)(guang)(guang)照(zhao)下產生活性(xing)物(wu)種，促使主(zhu)(zhu)(zhu)體(ti)材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)結構改(gai)變，進(jin)而使光(guang)(guang)(guang)(guang)照(zhao)區域的(de)(de)(de)(de)(de)溶解度(du)發生轉變，經過顯(xian)影和(he)(he)刻(ke)(ke)(ke)蝕，實現(xian)圖形從掩(yan)模版到基(ji)底的(de)(de)(de)(de)(de)轉移。對(dui)于某些光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)來(lai)說，主(zhu)(zhu)(zhu)體(ti)材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)本(ben)身也可(ke)以充當光(guang)(guang)(guang)(guang)敏材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)。依據(ju)主(zhu)(zhu)(zhu)體(ti)材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)的(de)(de)(de)(de)(de)不同(tong)，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)可(ke)以分(fen)(fen)為基(ji)于聚(ju)合(he)物(wu)的(de)(de)(de)(de)(de)高分(fen)(fen)子(zi)型光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)，基(ji)于小分(fen)(fen)子(zi)的(de)(de)(de)(de)(de)單分(fen)(fen)子(zi)樹(shu)脂（分(fen)(fen)子(zi)玻璃）光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)，以及含有無機材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)成(cheng)分(fen)(fen)的(de)(de)(de)(de)(de)有機-無機雜化光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)。本(ben)文將(jiang)主(zhu)(zhu)(zhu)要(yao)以不同(tong)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)主(zhu)(zhu)(zhu)體(ti)材(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)設計來(lai)綜述EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)研發歷史(shi)和(he)(he)現(xian)狀。按曝光(guang)(guang)(guang)(guang)波長可(ke)分(fen)(fen)為紫外光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)、深紫外光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)、極紫外光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)、電子(zi)束光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)、離(li)子(zi)束光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)、X射線光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)等(deng)。

從光(guang)(guang)(guang)(guang)刻設備(bei)角度(du)(du)(du)來看(kan)，EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻與其(qi)他波長光(guang)(guang)(guang)(guang)刻關鍵(jian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)兩(liang)點差異(yi)是(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)源強度(du)(du)(du)和散粒噪(zao)聲(sheng)(sheng)。盡管有多種(zhong)方(fang)式(shi)可獲得EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)，商用(yong)(yong)EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻機使(shi)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)是(shi)激光(guang)(guang)(guang)(guang)激發的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)等離子體（LPP）發光(guang)(guang)(guang)(guang)，其(qi)輸(shu)出功(gong)率曾長期是(shi)制約EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻技(ji)(ji)術商用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)瓶頸(jing)問題；另外，EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻使(shi)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)是(shi)反(fan)射(she)(she)鏡成(cheng)像系(xi)統，而(er)非傳統的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)透過(guo)折射(she)(she)鏡片組，且(qie)效率不高(gao)。因(yin)此在EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻發展的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)早期，通常都要求EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)具(ju)有較(jiao)高(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)靈敏度(du)(du)(du)。同(tong)(tong)時(shi)，EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)子能量(liang)(liang)（約為(wei)92eV）遠(yuan)高(gao)于以(yi)前(qian)幾代光(guang)(guang)(guang)(guang)刻技(ji)(ji)術光(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)子能量(liang)(liang)（是(shi)193nm光(guang)(guang)(guang)(guang)子能量(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)14.4倍），也就(jiu)是(shi)說(shuo)，對(dui)于同(tong)(tong)樣(yang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)能量(liang)(liang)，光(guang)(guang)(guang)(guang)子數(shu)目遠(yuan)少于前(qian)幾代的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻技(ji)(ji)術，這就(jiu)導致散粒噪(zao)聲(sheng)(sheng)增加，從而(er)造成(cheng)線寬/線邊緣粗(cu)(cu)糙(cao)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)升高(gao)。而(er)靈敏度(du)(du)(du)過(guo)高(gao)并不利(li)(li)于克服散粒噪(zao)聲(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)影響(xiang)，所以(yi)隨(sui)著EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)源功(gong)率不斷提(ti)升，業界對(dui)EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)要求從“提(ti)高(gao)靈敏度(du)(du)(du)”逐漸變為(wei)“利(li)(li)用(yong)(yong)一(yi)定程(cheng)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)靈敏度(du)(du)(du)來降(jiang)低粗(cu)(cu)糙(cao)度(du)(du)(du)”。高(gao)壁壘和高(gao)價(jia)值量(liang)(liang)是(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)典型特征。光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)屬于技(ji)(ji)術和資本密集(ji)(ji)(ji)型行業，全(quan)球供應市場高(gao)度(du)(du)(du)集(ji)(ji)(ji)中。浙江LCD觸摸(mo)屏用(yong)(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻膠(jiao)集(ji)(ji)(ji)成(cheng)電路材(cai)料

光(guang)刻膠的國產化公關正在(zai)展開，在(zai)面板屏顯光(guang)刻膠領域，中國已經出現了一批(pi)有競爭力的本土企業(ye)。昆山(shan)i線光(guang)刻膠光(guang)致(zhi)抗蝕劑

利用基團變化導致光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)溶解性(xing)變差構建負(fu)性(xing)光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)，還有(you)日本日立公司的(de)(de)Kojima等，他(ta)們與日本東京應化工業的(de)(de)研發人(ren)員開發了(le)(le)一種枝(zhi)狀單分子(zi)樹脂分子(zi)3M6C-MBSA-BL。3M6C-MBSA-BL內含有(you)γ-羥基羧酸(suan)基團，在(zai)強(qiang)酸(suan)的(de)(de)作(zuo)用下，可(ke)以發生分子(zi)內脫水，由(you)易溶于堿性(xing)顯影液(ye)的(de)(de)羧酸(suan)變為難溶于羧酸(suan)顯影液(ye)的(de)(de)內酯，因而可(ke)作(zuo)為負(fu)膠(jiao)(jiao)使用。Kojima等只檢測了(le)(le)其作(zuo)為電(dian)子(zi)束光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)性(xing)能，獲得了(le)(le)40nm線(xian)寬的(de)(de)線(xian)條，呈現出較好的(de)(de)抗刻(ke)(ke)蝕性(xing)，但它作(zuo)為EUV光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)能力還有(you)待驗證。昆山i線(xian)光刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)光致抗蝕劑(ji)

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