對同一(yi)(yi)靶(ba)丸(wan)相同位(wei)置進行白光(guang)垂(chui)(chui)直(zhi)(zhi)掃描(miao)干(gan)涉(she)，圖4-3是靶(ba)丸(wan)的(de)(de)垂(chui)(chui)直(zhi)(zhi)掃描(miao)干(gan)涉(she)示意圖，通過控制光(guang)學(xue)輪(lun)廓儀的(de)(de)運動機構帶動干(gan)涉(she)物鏡(jing)在(zai)垂(chui)(chui)直(zhi)(zhi)方向上(shang)的(de)(de)移動，從而測(ce)(ce)量(liang)到(dao)(dao)光(guang)線(xian)(xian)穿(chuan)(chuan)過靶(ba)丸(wan)后(hou)反(fan)射(she)(she)到(dao)(dao)參(can)考鏡(jing)與到(dao)(dao)達基底(di)直(zhi)(zhi)接反(fan)射(she)(she)回參(can)考鏡(jing)的(de)(de)光(guang)線(xian)(xian)之間(jian)的(de)(de)光(guang)程差(cha)(cha)，顯(xian)然，當一(yi)(yi)束(shu)平行光(guang)穿(chuan)(chuan)過靶(ba)丸(wan)后(hou)，偏離靶(ba)丸(wan)中(zhong)心(xin)越(yue)遠的(de)(de)光(guang)線(xian)(xian)，測(ce)(ce)量(liang)到(dao)(dao)的(de)(de)有效(xiao)壁厚(hou)(hou)越(yue)大(da)，其光(guang)程差(cha)(cha)也(ye)越(yue)大(da)，但這并不表示靶(ba)丸(wan)殼(ke)層的(de)(de)厚(hou)(hou)度，當垂(chui)(chui)直(zhi)(zhi)穿(chuan)(chuan)過靶(ba)丸(wan)中(zhong)心(xin)的(de)(de)光(guang)線(xian)(xian)測(ce)(ce)得的(de)(de)光(guang)程差(cha)(cha)才(cai)對應靶(ba)丸(wan)的(de)(de)上(shang)、下殼(ke)層的(de)(de)厚(hou)(hou)度。白光(guang)干(gan)涉(she)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)測(ce)(ce)量(liang)技(ji)術可(ke)以應用(yong)于材料科學(xue)中(zhong)的(de)(de)薄膜(mo)(mo)微結構分析。順(shun)義區膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀工廠

薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)作(zuo)為重要(yao)元件(jian)，通常使(shi)用(yong)(yong)金(jin)(jin)屬、合(he)金(jin)(jin)、化(hua)合(he)物、聚合(he)物等作(zuo)為其(qi)主(zhu)要(yao)基(ji)材(cai)，品類涵(han)蓋光(guang)學(xue)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)、電(dian)隔膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)、阻隔膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)、保(bao)護(hu)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)、裝(zhuang)飾(shi)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)等多(duo)種(zhong)功(gong)能(neng)性薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)，廣(guang)泛(fan)應用(yong)(yong)于(yu)現(xian)代(dai)光(guang)學(xue)、電(dian)子、醫療、能(neng)源(yuan)、建(jian)材(cai)等技(ji)術領域(yu)。常用(yong)(yong)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)厚(hou)(hou)度范圍從納米(mi)級到微(wei)米(mi)級不等。納米(mi)和亞微(wei)米(mi)級薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)主(zhu)要(yao)是基(ji)于(yu)干(gan)涉(she)效應調制的(de)光(guang)學(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)，包(bao)括各種(zhong)增(zeng)透增(zeng)反膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)、偏振膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)、干(gan)涉(she)濾光(guang)片(pian)和分(fen)光(guang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)等。部分(fen)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)經特(te)殊工藝(yi)處理后還具(ju)有耐(nai)高(gao)(gao)溫(wen)、耐(nai)腐蝕、耐(nai)磨損等特(te)性，對通訊、顯(xian)示、存儲等領域(yu)內光(guang)學(xue)儀(yi)器的(de)質量(liang)(liang)起(qi)決定(ding)性作(zuo)用(yong)(yong)[1-3]，如(ru)平面(mian)顯(xian)示器使(shi)用(yong)(yong)的(de)ITO鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)，太陽能(neng)電(dian)池表面(mian)的(de)SiO2減反射(she)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)等。微(wei)米(mi)級以上(shang)的(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)以工農業薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)為主(zhu)，多(duo)使(shi)用(yong)(yong)聚酯材(cai)料，具(ju)有易改性、可回收(shou)、適用(yong)(yong)范圍廣(guang)等特(te)點(dian)。例如(ru)6微(wei)米(mi)厚(hou)(hou)度以下(xia)的(de)電(dian)容器膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)，20微(wei)米(mi)厚(hou)(hou)度以下(xia)的(de)大部分(fen)包(bao)裝(zhuang)印刷用(yong)(yong)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)，25~38微(wei)米(mi)厚(hou)(hou)的(de)建(jian)筑玻璃貼膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)及(ji)汽車貼膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)，以及(ji)厚(hou)(hou)度為25~65微(wei)米(mi)的(de)防偽標牌(pai)及(ji)拉線(xian)膠(jiao)帶等。微(wei)米(mi)級薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)利用(yong)(yong)其(qi)良好(hao)的(de)延展、密(mi)封、絕(jue)緣特(te)性，遍及(ji)食品包(bao)裝(zhuang)、表面(mian)保(bao)護(hu)、磁(ci)帶基(ji)材(cai)、感光(guang)儲能(neng)等應用(yong)(yong)市(shi)場，加工速度快，市(shi)場占比高(gao)(gao)。濰坊膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀(yi)生(sheng)產廠家哪家好(hao)白光(guang)干(gan)涉(she)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)測量(liang)(liang)技(ji)術可以實現(xian)對不同材(cai)料的(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)進行測量(liang)(liang)。

光譜擬合法(fa)易于測量具有(you)應(ying)用(yong)領域，由于使用(yong)了迭代算(suan)(suan)法(fa)，因此(ci)該(gai)方法(fa)的(de)優缺(que)點在很大程(cheng)度上取決于所(suo)選擇的(de)算(suan)(suan)法(fa)。隨著各種全(quan)局優化算(suan)(suan)法(fa)的(de)引(yin)入，遺(yi)傳算(suan)(suan)法(fa)和模(mo)(mo)擬退火算(suan)(suan)法(fa)等新算(suan)(suan)法(fa)被用(yong)于薄膜(mo)參數的(de)測量。其(qi)缺(que)點是不夠實用(yong)，該(gai)方法(fa)需要一個較好的(de)薄膜(mo)的(de)光學模(mo)(mo)型(包括色(se)散(san)(san)系數、吸(xi)收系數、多(duo)層膜(mo)系統)，但是在實際測試過程(cheng)中，薄膜(mo)的(de)色(se)散(san)(san)和吸(xi)收的(de)公式通常(chang)不準確，尤其(qi)是對于多(duo)層膜(mo)體系，建立光學模(mo)(mo)型非常(chang)困難，無法(fa)用(yong)公式準確地表示出(chu)來(lai)。在實際應(ying)用(yong)中只(zhi)能使用(yong)簡化模(mo)(mo)型，因此(ci)，通常(chang)全(quan)光譜擬合法(fa)不如極值法(fa)有(you)效。另外該(gai)方法(fa)的(de)計算(suan)(suan)速(su)度慢也不能滿足快速(su)計算(suan)(suan)的(de)要求。

基于(yu)白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜單(dan)(dan)峰(feng)值(zhi)波(bo)長移(yi)動的(de)(de)(de)(de)鍺(zang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方(fang)案(an)研究(jiu)：在對比(bi)研究(jiu)目前常(chang)用的(de)(de)(de)(de)白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方(fang)案(an)的(de)(de)(de)(de)基礎上(shang)，我(wo)們發現當兩(liang)干(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)束的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)非常(chang)小(xiao)導(dao)致其干(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜只有(you)一個干(gan)涉(she)峰(feng)時，常(chang)用的(de)(de)(de)(de)基于(yu)兩(liang)相(xiang)鄰干(gan)涉(she)峰(feng)間(jian)距的(de)(de)(de)(de)解調(diao)方(fang)案(an)不(bu)再適用。為(wei)此(ci)，我(wo)們提出(chu)了(le)適用于(yu)極(ji)小(xiao)光(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)的(de)(de)(de)(de)基于(yu)干(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜單(dan)(dan)峰(feng)值(zhi)波(bo)長移(yi)動的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方(fang)案(an)。干(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜的(de)(de)(de)(de)峰(feng)值(zhi)波(bo)長會隨著(zhu)光(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)的(de)(de)(de)(de)增大出(chu)現周期性(xing)的(de)(de)(de)(de)紅移(yi)和藍(lan)移(yi)，當光(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)在較(jiao)小(xiao)范圍(wei)內變化時，峰(feng)值(zhi)波(bo)長的(de)(de)(de)(de)移(yi)動與光(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)成(cheng)正比(bi)。根據這(zhe)一原理(li)，搭建(jian)了(le)光(guang)(guang)(guang)(guang)纖(xian)白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)溫度(du)傳感系統對這(zhe)一測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)解調(diao)方(fang)案(an)進行驗證，得到(dao)了(le)光(guang)(guang)(guang)(guang)纖(xian)端面半導(dao)體(ti)鍺(zang)薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)厚(hou)度(du)。實驗結(jie)果顯示(shi)鍺(zang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)厚(hou)度(du)為(wei)，與臺階儀(yi)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)結(jie)果存在，這(zhe)是因為(wei)薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)表面本身并不(bu)光(guang)(guang)(guang)(guang)滑，臺階儀(yi)的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)結(jie)果只能作為(wei)參考值(zhi)。鍺(zang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)誤差(cha)(cha)主(zhu)要來自光(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)波(bo)長漂移(yi)和溫度(du)控制(zhi)誤差(cha)(cha)。白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)技(ji)術(shu)可(ke)以應用于(yu)電子顯示(shi)器中的(de)(de)(de)(de)薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)。

白(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)的(de)(de)分析方(fang)法(fa)利用(yong)(yong)(yong)白(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)感(gan)知(zhi)空間(jian)位(wei)(wei)(wei)(wei)置(zhi)的(de)(de)變化，從(cong)而得(de)(de)(de)到(dao)被測(ce)物體(ti)的(de)(de)信息(xi)。它是(shi)(shi)在(zai)單(dan)色光(guang)(guang)(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)干(gan)(gan)涉(she)(she)術的(de)(de)基礎上發(fa)展而來的(de)(de)。單(dan)色光(guang)(guang)(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)干(gan)(gan)涉(she)(she)術利用(yong)(yong)(yong)光(guang)(guang)(guang)路使(shi)參考光(guang)(guang)(guang)和被測(ce)表(biao)面的(de)(de)反射光(guang)(guang)(guang)發(fa)生(sheng)干(gan)(gan)涉(she)(she)，再(zai)使(shi)用(yong)(yong)(yong)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)的(de)(de)方(fang)法(fa)調制相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)，利用(yong)(yong)(yong)干(gan)(gan)涉(she)(she)場中光(guang)(guang)(guang)強(qiang)的(de)(de)變化計算出其每個(ge)數據點的(de)(de)初始相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)，但(dan)是(shi)(shi)這樣得(de)(de)(de)到(dao)的(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)是(shi)(shi)位(wei)(wei)(wei)(wei)于（-π，+π]間(jian)，所以(yi)得(de)(de)(de)到(dao)的(de)(de)是(shi)(shi)不連續的(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)。因此(ci)，需要進行相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)展開使(shi)其變為(wei)連續相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)。再(zai)利用(yong)(yong)(yong)高度與相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)的(de)(de)信息(xi)求出被測(ce)物體(ti)的(de)(de)表(biao)面形貌。單(dan)色光(guang)(guang)(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)法(fa)具有測(ce)量(liang)(liang)速度快、測(ce)量(liang)(liang)分辨力高、對背景光(guang)(guang)(guang)強(qiang)不敏感(gan)等優點。但(dan)是(shi)(shi)，由(you)于單(dan)色光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)無(wu)法(fa)確(que)定干(gan)(gan)涉(she)(she)條紋的(de)(de)零級(ji)位(wei)(wei)(wei)(wei)置(zhi)。因此(ci)，在(zai)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)解包裹中無(wu)法(fa)得(de)(de)(de)到(dao)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)差的(de)(de)周期數，所以(yi)只(zhi)能(neng)(neng)假定相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)差不超過一(yi)個(ge)周期，相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)當于測(ce)試表(biao)面的(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)鄰高度不能(neng)(neng)超過四分之一(yi)波長[27]。這就限(xian)制了其測(ce)量(liang)(liang)的(de)(de)范圍，使(shi)它只(zhi)能(neng)(neng)測(ce)試連續結構或(huo)者(zhe)光(guang)(guang)(guang)滑表(biao)面結構。該(gai)技術可以(yi)通(tong)過測(ce)量(liang)(liang)干(gan)(gan)涉(she)(she)曲線來計算薄膜的(de)(de)厚度。山西膜厚儀制造廠家(jia)

白光干涉膜厚測量技(ji)術可以(yi)在不同環境下進行(xing)測量。順義區膜厚儀工廠

在(zai)激(ji)光慣(guan)性約束核(he)聚(ju)變實(shi)驗中，靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)物性參(can)(can)數(shu)和(he)幾何參(can)(can)數(shu)是靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)制備(bei)工(gong)藝(yi)改(gai)進(jin)和(he)仿真模擬核(he)聚(ju)變實(shi)驗過程的(de)(de)(de)基(ji)礎，因此(ci)如(ru)何對靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)多個參(can)(can)數(shu)進(jin)行同步(bu)、高(gao)精(jing)度、無損的(de)(de)(de)綜合(he)檢測(ce)是激(ji)光慣(guan)性約束核(he)聚(ju)變實(shi)驗中的(de)(de)(de)關鍵(jian)問題。以(yi)上各(ge)種(zhong)薄(bo)(bo)膜(mo)厚(hou)度及折射率的(de)(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)方法(fa)各(ge)有利弊，但針對本文實(shi)驗，仍然無法(fa)滿(man)足激(ji)光核(he)聚(ju)變技術對靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)參(can)(can)數(shu)測(ce)量(liang)(liang)的(de)(de)(de)高(gao)要(yao)求，靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)參(can)(can)數(shu)測(ce)量(liang)(liang)存(cun)在(zai)以(yi)下(xia)問題：不(bu)能對靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)進(jin)行破壞性切割測(ce)量(liang)(liang)，否則，被破壞后的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)無法(fa)用于于下(xia)一步(bu)工(gong)藝(yi)處理或者打靶(ba)(ba)實(shi)驗；需要(yao)同時測(ce)得靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)多個參(can)(can)數(shu)，不(bu)同參(can)(can)數(shu)的(de)(de)(de)單獨測(ce)量(liang)(liang)，無法(fa)提供靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)制備(bei)和(he)核(he)聚(ju)變反應(ying)過程中發生的(de)(de)(de)結(jie)(jie)構變化現象(xiang)和(he)規律，并且效率低下(xia)、沒有統一的(de)(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)標(biao)準(zhun)。靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)屬于自支(zhi)撐球形薄(bo)(bo)膜(mo)結(jie)(jie)構，曲面應(ying)力(li)大、難(nan)展平的(de)(de)(de)特點導(dao)致靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)與(yu)基(ji)底不(bu)能完全(quan)貼合(he)，在(zai)微區內可(ke)看作類薄(bo)(bo)膜(mo)結(jie)(jie)構順義區膜(mo)厚(hou)儀工(gong)廠

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